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磁阻式隨機存取記憶體(MRAM:Magnetic RAM)

❒ 磁鐵與磁矩
磁鐵同時具有N極與S極,科學家們想像在磁鐵內部有無數的「小磁鐵」,每個小磁鐵都同時具有N極與S極,如<圖一(a)>所示,這樣的小磁鐵稱為「磁矩(Magnetic dipole)」。
當磁鐵內部的磁矩排列得很整齊時,所有磁矩的N極向上,才會造成整塊磁鐵的N極向上。為了簡化圖形的複雜度,我們通常以一個箭號來代表磁矩,箭頭的方向定義為磁矩的N極,如<圖一(b)>所示,具有磁矩的材料稱為「磁性材料(Magnetic materials)」。
磁化方向與磁場方向的定義不同,如<圖一(c)>所示:
➤磁化方向:定義為在「磁鐵內部」由S極指向N極的方向;
➤磁場方向:定義為在「磁鐵外部」由N極指向S極的方向
圖一 磁鐵與磁矩。
❒ 磁阻效應(MR: Magneto Resistance)
材料受到磁場作用的時候,電阻會產生變化的現象稱為「磁阻效應(Magneto resistance)」,常見的結構如<圖一>所示,當上下兩層磁性材料的N極方向相同時,電阻較小(電壓較小),當上下兩層磁性材料的N極方向相反時,電阻較大(電壓較大)。磁阻式隨機存取記憶體(MRAM)利用電流產生磁場(安培右手定則)使磁性材料產生不同的磁化方向來寫入資料,利用「磁阻效應(MR:Magneto Resistance)」來讀取資料,因此稱為「磁阻式(Magneto Resistive)」。
圖二 磁阻效應示意圖。
❒ 磁阻式隨機存取記憶體(MRAM)的構造
磁阻式隨機存取記憶體(MRAM)的構造如<圖三>所示,直接在矽晶圓上使用濺鍍法成長一層「磁性材料(鈷Co)」,再使用濺鍍法成長一層「非磁性材料(氧化鋁Al2O3)」,再使用濺鍍法成長一層「磁性材料(鈷鐵合金CoFe/鎳鐵合金NiFe)」,最後再以化學氣相沉積法(CVD)成長一層「金屬層」,並且使用光罩、曝光、顯影、蝕刻將金屬層蝕刻成金屬導線,金屬導線必須分布在每一個位元(bit),用來存取每一個位元(bit)的資料。知識力www.ansforce.com。
圖三 磁電隨機存取記憶體(MRAM)的構造示意圖。
❒ 磁阻式隨機存取記憶體(MRAM)的工作原理
「下層磁性材料(Co)」的N極方向固定向右,根據安培右手定則:姆指代表電流方向,則四指代表磁場方向,寫入資料的原理如<圖四>所示:
➤寫入資料0:當電流由每個位元上方的金屬導線由內向外流,則可以感應「上層磁性材料(CoFe/NiFe)」形成N極向右,代表寫入0,如<圖四(a)>所示。
➤寫入資料1:當電流由每個位元上方的金屬導線由外向內流,則可以感應「上層磁性材料(CoFe/NiFe)」形成N極向左,代表寫入1,如<圖四(b)>所示。
這裡要特別注意,上面說明的寫入方法只是讓大家有個概念,由於使用磁場改變磁化方向(N極方向)的方法在半導體電路上製作不易,因此目前實務上是使用電壓來改變磁化方向。
MRAM讀取資料是利用磁性材料的「磁阻效應(MR:Magneto Resistance)」,直接經由連接在每個位元上下方的金屬導線讀取資料,量測「上層磁性材料(CoFe/NiFe)」與「下層磁性材料(Co)」的電壓,讀取資料的原理如<圖四>所示:
➤讀取資料0:當上下兩層磁性材料的N極方向相同時,電阻較小(電壓較小),如<圖四(c)>所示。
➤讀取資料1:當上下兩層磁性材料的N極方向相反時,電阻較大(電壓較大),如<圖四(d)>所示。
圖四 磁電隨機存取記憶體(MRAM)的工作原理示意圖。
❒ 磁電隨機存取記憶體(MRAM)的優缺點
➤優點
1.屬於「非揮發性記憶體(NVM)」,電源關閉後資料仍然可以保存。
2.不像快取記憶體(Flash ROM)需要高電壓強迫電子注入浮動閘極,所以耗電量較低。
3.不像硬碟機(HDD)需要使用旋轉馬達與讀取頭,所以很省電、耐撞擊、不跳針。
➤缺點
1.必須使用各種磁性材料(鐵鈷合金與鐵鎳合金),製程不夠成熟,良率較低。
2.許多專利由國外公司掌握,如果支付專利費用,則生產成本較高,售價也較高。
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