微波電漿化學氣相沉積(MPCVD)在成長薄膜的過程中有化學反應發生，屬於「化學氣相沉積(CVD)」，由於只需要高真空，而且蒸鍍的金屬可以大量快速地在基板上沉積，成本較低適合工廠大量生產，目前最主要用來成產人造鑽石、鑽石玻璃，鑽石被稱為「第三代半導體」，未來有可能會影響整個半導體產業的發展。