電子束蒸鍍成長薄膜的過程中沒有化學反應發生，所以屬於物理氣相沉積(PVD)，由於只需要高真空，而且蒸鍍的薄膜可以大量快速地在基板上沉積，成本較低適合工廠大量生產，這種技術目前比較常用在光學元件的薄膜製程。