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Hightech  2017-01-16 18:17  A20161009012 
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電漿化學氣相沉積在成長薄膜的過程中有化學反應發生,屬於化學氣相沉積(CVD),由於只需要高真空,而且蒸鍍的金屬可以大量快速地在基板上沉積,成本較低適合工廠大量生產。電漿化學氣相沉積通常用來製作積體電路金屬導線、硬碟類鑽石保護膜等。