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Hightech  2017-01-16 18:17  A20161009015 
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高溫氧化在成長薄膜的過程中有化學反應發生,屬於化學氣相沉積(CVD),可以快速在基板上成長厚度均勻且緻密的氧化物薄膜,成本較低適合工廠大量生產,通常用來製作矽晶圓的氧化層(氧化矽薄膜)。